半导体超纯水设备工艺流程及特点

随着生活水平的提高，人们对生活用水的要求也相对提高。例如对水质的要求，我们以往使用的提纯水的设备无法去除水中的阴阳离子，而现在使用的半导体超纯水设备却可以做到这一点，因此半导体超纯水设备被应用于各个领域，那么半导体超纯水设备的操作流程有哪些呢？

       半导体行业用超纯水设备主要应用于半导体行业用水，该设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
2、预处理-一级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
半导体行业用超纯水设备特点
1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。
2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。
3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

4、能耗低、水利用率高、运行成本低。
半导体行业用超纯水设备性能优势明显，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，超纯水装置结构设计相对靠紧，占地面积小，可以为企业节省很多空间。以上是关于半导体超纯水设备的介绍，相信大家在看完此文章后对半导体超纯水设备会有进一步的了解，从上面的介绍中我们可以看出半导体超纯水设备因不同的情况，工艺流程也会有所不同。